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 退火爐是一種用于制造半導(dǎo)體器件的工藝,它包括對(duì)多個(gè)半導(dǎo)體晶片進(jìn)行加熱以影響它們的電性能。對(duì)不同的效果設(shè)計(jì)了熱處理工藝?赏ㄟ^(guò)加熱晶片來(lái)激活摻雜劑,將薄膜轉(zhuǎn)變?yōu)楸∧せ驅(qū)⒈∧まD(zhuǎn)變?yōu)榫w界面,從而形成致密的薄膜,改變生長(zhǎng)薄膜的狀態(tài),修復(fù)注入的損傷,將摻雜劑從一層轉(zhuǎn)移到另一層,或?qū)诫s劑從一層轉(zhuǎn)移到薄膜或從薄膜進(jìn)入晶片基體。退火爐可以被整合到其他的處理步驟中,比如氧化,或者可以自己處理。退火爐是由專門設(shè)計(jì)用于加熱半導(dǎo)體晶片的設(shè)備組成。退火爐為節(jié)能循環(huán)操作爐,結(jié)構(gòu)超節(jié)能,采用纖維結(jié)構(gòu),節(jié)電60%。

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